當(dāng)前位置:首頁 ? 行業(yè)動(dòng)態(tài) ? Si3N4-AMB陶瓷基板的應(yīng)用
文章出處:行業(yè)動(dòng)態(tài) 責(zé)任編輯:陶瓷pcb電路板|深圳市金瑞欣特種電路技術(shù)有限公司 閱讀量:- 發(fā)表時(shí)間:2023-11-15
功率電子器件在電力存儲(chǔ),電力輸送,電動(dòng)汽車,電力機(jī)車等眾多工業(yè)領(lǐng)域得到越來越廣泛的應(yīng)用。隨著功率電子器件本身不斷的大功率化和高集成化,芯片在工作過程中將會(huì)產(chǎn)生大量的熱。如果這些熱量不能及時(shí)有效地發(fā)散出去,功率電子器件的工作性能將會(huì)受到影響,嚴(yán)重的話,功率電子器件本身會(huì)被破損。這就要求擔(dān)負(fù)絕緣和散熱功能的陶瓷基板必須具備卓越的機(jī)械性能和導(dǎo)熱性能。由于氮化硅(Si3N4)陶瓷的高導(dǎo)熱性、抗熱震性及在高溫中良好的機(jī)械性能,Si3N4-AMB陶瓷基板備受矚目。
Si3N4為何要用AMB工藝
目前功率半導(dǎo)體器件所用的陶瓷基板多為DBC(Direct Bond Copper,直接覆銅)工藝,Al2O3與ZTA等氧化物陶瓷以及AlN可使用DBC技術(shù)與銅接合:將無氧銅經(jīng)熱氧化或化學(xué)氧化制程于表面產(chǎn)生一Cu2O層,于1065~1083℃之間利用Cu-Cu2O共晶液相潤(rùn)濕兩材料接觸面,并生成CuAlO2化合物達(dá)成陶瓷與銅鍵合。
然而Si3N4與銅之間不會(huì)形成Cu-Si-O化合物,因此必須采用活性金屬焊接(Active Metal Brazing,AMB)技術(shù)與銅接合,利用活性金屬元素(Ti、Zr、Ta、Nb、V、Hf等)可以潤(rùn)濕陶瓷表面的特性,將銅層通過活性金屬釬料釬焊在Si3N4陶瓷板上。
Si3N4-AMB的生產(chǎn)流程
AMB工藝根據(jù)釬焊料不同,目前主要分為放置銀銅鈦焊片和印刷銀銅鈦焊膏兩種。以后者為例,首先將Ag、Cu、Ti元素直接以粉末形式混合制成漿料,采用絲網(wǎng)印刷技術(shù)將Ag-Cu-Ti焊料印刷在氮化硅陶瓷基板上,再利用熱壓技術(shù)將銅箔層壓在焊料上,最后通過燒結(jié)、光刻、腐蝕及鍍Ni工藝制備出符合要求的氮化硅AMB覆銅板。
在AMB工藝中,利用Ti等過渡金屬與Ag、Cu等元素形成合金焊料,具有很強(qiáng)的化學(xué)活性,能夠與氧化物陶瓷、非氧化物陶瓷等發(fā)生反應(yīng),促使熔融焊料潤(rùn)濕陶瓷表面,完成氮化硅與無氧銅的連接?;钚栽豑i與氮化硅陶瓷反應(yīng)的主要產(chǎn)物是TiN和TiAl3。
但這兩種方法都存在一定局限。首先,焊片工藝所用的銀銅鈦焊片在制備過程中容易出現(xiàn)活性元素Ti的氧化、偏析問題,導(dǎo)致成材率極低,焊接接頭性能較差。對(duì)于焊膏工藝,在高真空中加熱時(shí)有大量有機(jī)物揮發(fā),導(dǎo)致釬焊界面不致密,出現(xiàn)較多空洞,使得基板在服役過程中易出現(xiàn)高壓擊穿、誘發(fā)裂紋的問題。
而在通過AMB工藝制備氮化硅覆銅基板的過程中,對(duì)Si3N4陶瓷和銅片進(jìn)行除油和除氧化處理、提供較高的真空釬焊環(huán)境是目前公知的降低界面空洞率的方法。焊接壓力是空洞率最主要的影響因素,適當(dāng)加壓不僅可以使母材與焊料形成緊密的接觸,有利于接觸反應(yīng)熔化的進(jìn)行,而且可以增強(qiáng)熔化焊料的流動(dòng)性,擠出釬焊界面的氣體,從而降低空洞率。
此外,真空+氮?dú)獾暮附託夥毡日婵諝夥崭欣诮档秃附涌斩绰?,這對(duì)AMB工藝也有一定啟發(fā)作用,不過需要注意的是氮?dú)庠诟邷叵驴赡軙?huì)和Ti發(fā)生化學(xué)反應(yīng),其他惰性氣體(氦氣、氬氣等)可能更適用于AMB工藝。
Si3N4-AMB基板的特點(diǎn)
● 由于焊料/焊片的作用,可使AMB基板較DCB基板的銅、瓷片間鍵合得更緊密,粘合強(qiáng)度比DBC更高、可靠度更好;
● Si3N4陶瓷具有更高的熱導(dǎo)率(商用產(chǎn)品的典型值在80到90W/mK),和氧化鋁基板或ZTA基板相比、擁有三倍以上的熱導(dǎo)率,熱膨脹系數(shù)(2.4ppm/K)較小,與半導(dǎo)體芯片(Si、SiC)接近,具有良好的熱匹配性。
● 氮化硅具有優(yōu)異的機(jī)械性能(兼顧高彎曲強(qiáng)度和高斷裂韌度,和氧化鋁基板或氮化鋁基板相比,約有兩倍以上的抗彎強(qiáng)度),因此具有極高的耐冷熱沖擊性(極高可靠性),可將非常厚的銅金屬(厚度可達(dá)800μm)焊接到相對(duì)較薄的氮化硅陶瓷上。因此,載流能力較高,而且傳熱性也非常好。
Si3N4-AMB基板的應(yīng)用
Si3N4-AMB具有高熱導(dǎo)率、高機(jī)械能、高載流能力以及低熱膨脹系數(shù),適用于SiCMOSFET功率模塊、大功率IGBT模塊等高溫、大功率半導(dǎo)體電子器件的封裝材料,應(yīng)用于電動(dòng)汽車(EV)和混合動(dòng)力車(HV)、軌道交通、光伏等領(lǐng)域。
從性價(jià)比方面考慮,目前450/600V的車規(guī)級(jí)IGBT模塊多用DBC陶瓷基板,800V及更高功率的是采用AMB陶瓷基板。SiC功率器件由于集成度和功率密度明顯提高,相應(yīng)工作產(chǎn)生的熱量極具增加,采用Si3N4-AMB基板以實(shí)現(xiàn)更高的熱性能和穩(wěn)健性成為新趨勢(shì)。
通過公司研發(fā)團(tuán)隊(duì)的不懈努力,現(xiàn)已成功研發(fā)微小孔板、高精密板、難度板、微型化板、圍壩板等,具備DPC、DBC、HTCC、LTCC等多種陶瓷生產(chǎn)技術(shù),以便為更多需求的客戶服務(wù),開拓列廣泛的市場(chǎng)。
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