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碳化硅覆銅陶瓷基板的制作工藝碳化硅覆銅陶瓷基板在新能源汽車(chē)、光伏發(fā)電、軌道交通、智能電網(wǎng)等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用,那么碳化硅覆銅陶瓷基板采用什么工藝制作的呢?碳化硅陶瓷基板和氧化鋁陶瓷基板、氮化鋁陶瓷基板覆銅方法類(lèi)似,可以采用DPC電鍍銅工藝以及DBC燒結(jié)銅兩種金屬化工藝。具體采用什么工藝,一個(gè)是要考慮銅層厚度,以及性能要求,布線和孔的密度等綜合考慮。一,碳化硅陶瓷基板dpc鍍銅工藝碳化硅陶瓷基板采用高溫dpc電鍍燒結(jié)銅工藝,銅層一般較薄在100um以?xún)?nèi),也比較適合做精密化線路以及多孔,密集孔等,比較適合做高精密產(chǎn)品。制作成本較高,一般都是以打樣和小批量為主。二,碳化硅陶瓷基板dbc直接覆銅工藝DBC直接覆銅板工藝,一般銅層較厚,銅層100um以上,通過(guò)高位燒結(jié)
2022-07-08 http:///Article/tanhuaguifutongtaocijb.html
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